IBM und Intel im Transistoren-Kampf

Beide IT-Unternehmen haben gleichzeitig ähnliche Chipherstellungsverfahren vorgestellt. Die beiden Produktionsverfahren beinhalten so genanntes High-K-Material, womit sich kleinere und schnellere Transistoren bauen lassen sollen. High-K-Material soll besser isolieren, als das bisher verwendete Siliziumdioxid. Somit können die Transistoren kleiner gebaut werden, ohne wegen Elektrizitätsverlusten an Effizienz zu verlieren. Das neue Material soll das Mooresche Gesetz am Leben erhalten. Es besagt, dass sich die Anzahl Transistoren auf Prozessoren etwa alle zwei Jahre verdoppelt.